通用底物 HISCL Substrate Reagent Set
备案人注册地址
1-5-1 Wakinohama-Kaigandori, Chuo-ku,Kobe 651-0073,Japan
生产地址
4-3-2 Takatsukadai,Nishi-ku,Kobe,Hyogo 651-2271,Japan
代理人注册地址
上海市外高桥保税区富特西三路77号6幢202室
产品名称
通用底物 HISCL Substrate Reagent Set
型号规格
试剂4:40mL×1瓶试剂5:70mL×1瓶
产品描述
(1) 试剂4:2-(N-吗啉基)乙磺酸(MES缓冲液);(2) 试剂5:二钠2 -氯-5 - (4 -甲氧基螺{1,2 -二氧杂环丁烷-3,2′ - (5′-氯)-三环[3.3.1.1 3,7 ]癸烷} -4 -基)-1 -苯基磷酸盐(CDP-Star)。
预期用途
该产品用于在全自动免疫分析仪上进行免疫项目检测时使用的化学发光底物。
变更情况
代理人注册地址由“上海市外高桥保税区富特西三路77号6幢202室”变更为“中国(上海)自由贸易试验区冰克路500号5幢209室”变更时间2016年12月19日;备案人名称-中文由“/”变更为“希森美康株式会社”变更时间2018年07月03日
注:器械注册证相关信息来源国家药品监督管理局(数据具有延迟性)